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    2. 軟磁性能的體現

      軟磁合金磁性膜的飽和磁通密度(Bs)和矯頑力(Hc)在使用之前退火通過(guò)VSM測量。此外,通過(guò)四端子法測量合金磁性膜的電阻率(ρ)。

      隨后,通過(guò)VSM測量熱處理之后的合金磁性膜的飽和磁通密度和矯頑力。此外,通過(guò)四端子法測量合金磁性膜的電阻率。展示出了組成為Fe69.8Sm11.0O19.2的合金膜的飽和磁通密度,矯頑力和電阻率的測量結果。在圖在圖1中,飽和磁通密度由(-。小圓圈-。小圓圈-)表示,矯頑力由(-。圓圈-固體-。圓圈-固體)表示,并且電阻率由(-Δ-Δ-)。同樣,示出了組成為Fe68.5Ho11.5O20.0的合金膜的飽和磁通密度(Bs),矯頑力(Hc)和電阻率(ρ)的測量結果。在圖在圖2中,飽和磁通密度由(-。小圓圈-。小圓圈-)表示,矯頑力由(-。圓圈-固體-。圓圈-固體)表示,并且電阻率由(-Δ-Δ-)。

             從中可以看出,具有Fe69.8 Sm11.0 O19.2組成的本發(fā)明合金膜具有12.1 kG的高飽和磁通密度,15 Oe的低矯頑力和610μΩ.cm的高電阻率因此,表明良好的軟磁性能,并且從圖5可以看出。由圖2可知,本發(fā)明的具有Fe68.5Ho11.5O20.0組成的合金膜的飽和磁通密度較低,為8.9kG,矯頑力較低,為6.50Oe。其比電阻1800μΩ.cm。

      軟磁合金


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